「GteX事業では大型の設備等については集約して整備しております。
当チームは下記の機器を東北大学AIMRラボ棟に集約し、新規導入機器については導入後、準備が整い次第順次供用を開始いたします。
- 装置予約Equipment Reservation
-
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高圧水素環境安全管理システム
High Pressure Hydrogen Gas Safety Management System
当システムを実験室に備え、安全性を確保しています。
- メーカー
- 鈴木商館
- スペック
- 拡散式水素ガス検知器2台（簡易防爆エリア）
拡散式水素ガス検知器1台（一般エリア）
拡散式酸素濃度計1台（簡易防爆エリア）
DXステーション
DX Station
- 科学計算用CPUサーバー1
- 一般科学計算汎用
- 科学計算用CPUサーバー2
- 第一原理計算専用
- 科学計算用GPUサーバー
- ML、AI処理用
- 設定用ファイルサーバー
- 記憶容量600TB
パージ式グローブボックス(4台)
Purge-type Glove Boxes
- メーカー
- 美和製作所
- スペック
- パージ式
白金触媒 - 酸素濃度
- < 1 ppm
- 露点
- < -80ºC
容量基準PCTおよび140MPa高圧水素ブースター
Automatic controlled PCT apparatus (volumetric technique) connected with a hydrogen gas booster
- メーカー
- 鈴木商館／高圧システム
- 測定用チャンネル数
- 1
- 圧力範囲
- < 130 MPa
- 温度範囲
- -80ºCから350ºC
- ガス種
- 水素
重量基準PCTおよび50MPa高圧水素ブースター
Automatic controlled PCT apparatus (gravimetric technique) connected with a hydrogen gas booster
- メーカー
- TAインスツルメンツ／高圧システム
- 測定用チャンネル数
- 1
- 圧力範囲
- < 35 MPa
- 温度範囲
- 室温から100 ºC
- ガス種
- 水素
ヘリウム
熱分析・質量分析システム
Thermogravimetry (TG)-Differential Thermal Analysis (DTA) connected with Mass Spectrometry (MS)
- メーカー
- リガク
- 温度範囲
- 30-1100 ºC
- 昇温速度
- < 100 ºC/min
- 試料容器
- アルミニウム、プラチナ、アルミナ、石英
- フローガス種
- アルゴン
水素対応走査電子顕微(SEM)
Schottky field emission scanning electron microscope with a soft X-ray emission spectrometer
- メーカー
- 日本電子
- 倍率
- 10-2,000,000
- 軟X線分光による
化学結合状態観測
取得可能エネルギー範囲 -
100-400 eV（分解能 < 1.2 eV）
350-2300 eV（分解能 < 5.0 eV） - 加熱・冷却ステージ
温度範囲 - -185℃から400 ºC
- 質量分析の検出範囲
- 1-1022 u
高圧水素精密熱量計測装置
Calvet-type calorimeter for high-temperature and high-pressure hydrogen gas
- メーカー
- SETARAM DKSH
- 検出方法
- カルベ式（等温、昇温）
- 温度範囲
- 室温から600 ºC
- 昇温速度
- 0.01 - 2.0 ºC/min
- 水素圧力範囲
- < 50 MPa
高圧水素対応X線回折測定装置(XRD)
Powder X-ray diffractometer
- メーカー
- リガク
- 管球
- Cu
- 波長
-
1.5406 Å(Kα1)
1.5444 Å(Kα2) - 角度範囲
- 5º < 2θ < 160º
- 面間隔
- 0.78 Å < d < 17.66 Å
- 温度範囲
- 室温から1000 ºC
- 試料雰囲気（圧力）
-
空気（大気圧）
アルゴン（大気圧）
水素（< 1 MPa）
真空（10-4 Pa）
ハイスループット成膜装置
High-throughput magnetron sputtering system
- メーカー
- アールデック
- 成膜方法
- 3元マグネトロンスパッタ
- スパッタターゲットサイズ
- 2インチ
- 装填可能基数
- 10枚(20×20mm)、大気非接触
- 設定可能な
成膜パラメータ - スパッタソース1〜3の選択、TS間距離、プロセス圧力、プロセスガス流量、RF投入パワー/パルス幅、基板温度、成膜時間等
Raman分光装置
Raman spectroscopy
- メーカー
- Thermo Fisher Scientific
- レーザー波長
- 532 nm、780 nm
- 測定範囲
-
532 nm
50-3500 cm-1 (分解能：5 cm-1）
50-6000 cm-1 (分解能：11 cm-1）
780 nm
50-3300 （分解能：5 cm-1） - 測定温度
- -190 ºCから500 ºC
- 水素圧力
- < 7 MPa
水素分析装置EMGA
Hydrogen analyzer
- メーカー
- 堀場製作所
- 検出ガス種
- 水素